刻蚀机和光刻机的差别：光刻机把图案设计刻上去，随后刻蚀机依据刻上去的图案设计离子注入掉有图案设计（或是沒有图案设计）的一部分，留有剩余的部分。离子注入相对性光刻技术要非常容易。假如把在硅晶体上的工程施工比成木工活得话，光刻机的功效等同于木工在木材上用墨斗线画线，刻蚀机的功效等同于木工在木材上用手锯、木工凿、斧头、刨刀等工程施工。蚀刻机和光刻机特性一样，但精密度规定是天差地别。木工做细心活，一般精准到mm就可以了。做处理芯片用的刻蚀机和光刻机，要精准到纳米。
如今的手机处理器，如海思麒麟970，骁龙处理器845全是tsmc的10纳米技术。10纳米有多小呢？举个例子。假如把一根直徑是0.05mm发丝，按径向均值割成5000片，一片的薄厚大概便是10纳米。如今世界最专业的光刻机是荷兰的ASML企业，最少到10纳米。tsmc买的全是它的光刻机。ASML企业事实上是美国、荷兰、德国等好几个国家技术协作的結果。由于这方面的科学研究难度系数很大，单独国家进行不了。除开ASML，全世界仅有大家仍在高档光刻机上勤奋产品研发。
我们都是遭受技术禁售的，不可以买他最现代化的商品，中国上海市批量生产的是90纳米的光刻机。技术上面有差别。2017年，长春光机所“极紫外线”技术得到提升，预估能做到22-32纳米，技术差别变小了。
我坚信，没多久的未来，大家的科研人员一定能研发出全球一流的光刻机，不会再被受制于人。关键技术、重要技术、大国重器务必立足自身。高新科技的科技攻关要革除想象，靠我们自己。
大家刻蚀机技术早已提升，5纳米的刻蚀机大家也可以独立生产制造，如今受制于人的是光刻机。在芯片加工全过程中，光刻机施工放样，刻蚀机工程施工，清洗设备清理。随后不断循环系统几十次，一般要500道上下的工艺流程，处理芯片——也就是电子管的电子器件才可以进行。施工放样达不上精密度，刻蚀机就丧失立足之地了。
